电子回旋共振反应溅射制备ZnO膜的特性

汪建华

PDF(234 KB)
RSS服务E-mail Alert
武汉理工大学学报
武汉理工大学学报 ›› 1999, Vol. 21 ›› Issue (1) : 1-3.
论文

电子回旋共振反应溅射制备ZnO膜的特性

    {{javascript:window.custom_author_cn_index=0;}}
  • {{article.zuoZhe_CN}}
作者信息 +
History +

本文亮点

{{article.keyPoints_cn}}

HeighLight

{{article.keyPoints_en}}

摘要

{{article.zhaiyao_cn}}

Abstract

{{article.zhaiyao_en}}

关键词

Key words

引用本文

EndNote

Ris (Procite)

Bibtex

导出引用
{{article.zuoZheCn_L}}. {{article.title_cn}}. {{journal.qiKanMingCheng_CN}}. 1999, 21(1): 1-3

参考文献

原文顺序 | 文献年度倒序 | 文中引用次数倒序

参考文献

{{article.reference}}

基金

版权

{{article.copyrightStatement_cn}}
{{article.copyrightLicense_cn}}
PDF(234 KB)

Accesses

Citation

Detail
段落导航
相关文章
鄂ICP备10013895号
版权所有 © 《武汉理工大学学报》编辑部
地址：武汉市武昌珞狮路122号武汉理工大学（东院思源楼4楼）学报编辑部　邮编：430070
电话：027-87730582　E-mail：whlgdxxb@whut.edu.cn
本系统由北京玛格泰克科技发展有限公司设计开发

/

〈 〉